Visokokakovostni material silicij kovina 2502

Material in metoda priprave s kovinskim silicidom, akovinski silicij 2502nanostruktura, ki obsega nanostrukturo kovinskega silicida, izdelano na substratu SOI; Debelina izolacijske dielektrične plasti tega substrata SOI je 100-1000 nm, debelina silicijevega filma pa 50-500 nm. Metoda priprave vključuje čiščenje, sušenje, nanos pozitivnega fotorezista s centrifugiranjem, izpostavljanje, razvijanje in fiksiranje ter nato izdelavo strukture vzorca maske zahtevane nanostrukture na površini tankega filma silicija substrata SOI.

1.Material in način priprave s kovinskim silicidom, aSilicijeva kovina 2502nanostruktura, ki vsebuje kovinsko silicido nanostrukturo, izdelano na podlagi SOI; Debelina izolacijske dielektrične plasti tega SOI substrata je 100-1000 nm, debelina silicijevega filma pa 50-500 nm. Način priprave obsega, da se substrat SOI očisti, posuši, prelivno prevleče s pozitivnim fotoresistom, izpostavljen, razvit in pritrjen, struktura vzorca maske zahtevane nanostrukture pa je izdelana na površini silicijevega tankega filma SOI substrata. Reaktivno ionsko jedkanje se uporablja za vrezanje silicijevega filma na substratu SOI v potrebno nanostrukturo, globina jedkanja je debelina silicijevega filma, nato Kovinski silicid se odloži, nato pa kovina in silikon reagirajo v trdni fazi z visokotemperaturnim žarjenjem, da tvorijo kovinski silicid, nereagirano kovino pa odstranimo s kemično korozijo, to je, da se tvori kovinska silicida nanostcide. Metoda je preprosta in lahko nadzira položaj in obseg nanostrukture.

Priljubljena oznake: visokokakovostni material silicijeva kovina 2502, Kitajska visokokakovostni material silicijeva kovina 2502 proizvajalci, dobavitelji, tovarna